美國設計專利保護的是產品外觀，而非其功能。申請人主要透過圖面來展現產品的外觀。通常情況下，他們使用線條圖，以便將保護範圍集中在設計的形狀和結構上，而不是照片或數位影像中可能呈現的表面外觀或紋理。

本此北美智權報將在399-403期中，以兩件案例說明，美國專利審查程序手冊（MPEP）有關設計專利圖式之規定、圖式中具透明性的專利範圍是否包含透明性、半透明性及不透明性等內容。

案例一是編號2024-1616的SMG案[1]，在此案件中，因為地方法院對「透明度」一詞的解釋有誤，因此CAFC撤銷關於491專利及D930專利的侵權判決，並將D930專利侵權問題發回重審，並撤銷禁制令。案例二是第六巡迴法院的Think Green案[2]，此案件向申請人提供一則警告 — 如果申請人不希望受限於所示表面的外觀，則不應使用電腦生成的數位精描圖。為了保護真正不受表面外觀（尤其是不透明度）限制的設計，線條圖是最佳選擇。

因篇幅有限，於399期僅先介紹美國專利審查程序手冊的規定。

MPEP對於設計專利製圖的相關規定

專利審查程序手冊（MPEP）1503.02 (II)，表面陰影之說明，雖然37 CFR 1.152並未強制請求使用表面陰影，但在某些特定情況下，可能需要對圖形進行陰影處理，以清晰地顯示設計中3D表面特徵和輪廓。表面陰影對於區分產品的任何開放區域和實心區域也是必要的（如圖1所示）。但是，表面陰影不應應用於未請求保護的主題（以虛線表示），以免造成對權利請求範圍的混淆。

根據MPEP的規定，表面陰影線用於「指示特徵和輪廓」，包括「區分物品的任何開放區域和實心區域」。另一方面，法院指出，其他「法院曾裁定，當專利未明確規定限制條件時，換言之，當專利空白且不包含表面陰影時，專利權人有權獲得最寬泛的合理解釋」。例如，在第六巡迴法院的一個較早案例中，法院認定，沒有斜線的空白表面可以主張透明、半透明或不透明表面，或兼具以上所有特徵[4]。

 

設計專利申請圖式中常用的兩種陰影類型是直線表面陰影和點狀陰影。單獨使用或組合使用，它們都能有效地表現大多數表面的特徵和輪廓（如圖2所示）。

提交的圖紙中若缺乏適當的表面陰影，可能導致該設計不符合美國法典第35條第112款(a)項和(b)項的規定（或對於2012年9月16日之前提交的申請，則適用美國法典第35條第112款第一段和第二段的規定）。此外，如果表面形狀在提交的公開文件中並不明顯，則在提交後添加表面陰影可能構成新的內容。除用於表示黑色以及顏色對比的情況外，不允許使用純黑色表面陰影，且必須使用斜線陰影來表示透明、半透明以及高度拋光或反射的表面，例如鏡子。材料的對比可以透過在一個區域使用線條陰影，在另一個區域使用點描來表示。透過這種技術，請求項將廣泛涵蓋各種對比鮮明的表面，而不受顏色的限制。只要材料的外觀與圖面中所示的視覺外觀沒有可專利性的差異，權利請求也不會侷限於特定材料。

 

依據《專利法施行細則》第1.84條有關圖式標準的規定，其中（m）項說明陰影，如有助於瞭解發明又不會降低其可讀性，則鼓勵在該視圖中使用陰影。陰影最好使用於透視圖中顯示的各個部分，但不適用於橫斷面。請參閱本節（h）段之第（3）項說明。最好以等距線條來表現陰影。這些線條必須很細，數量越少越實用，且須與圖式中的其他部分形成對比。除非會彼此重疊或遮蔽參考文字外，可在物體陰影面使用粗線條以取代陰影。光線應來自左上方45度角處。表面輪廓應以適度陰影來表現為佳。圖3是USPTO設計專利申請指南中關於黑白線圖透明表面斜線陰影的範例。

備註：

1. [1] Smartened Manufacturing Group （SMG）, Inc. v. Opti-Luxx Inc.（CAF, 2025/11/13）.
2. [2] Think Green Limited v. Medela AG and Medela LLC.
3. [3] 圖片來源：USPTO2015年12月1日公告的USD744555以及2006年5月16日公告的USD520911設計專利。
4. [4] 參見Transmatic, Inc. v. Gulton Indus., Inc., 601 F.2d 904, 912-13 (6th Cir. 1979)。
5. [5] 圖片來源：USPTO的設計專利申請須知的圖式中以陰影線呈現表面特徵之範例。https://www.uspto.gov/patents/basics/apply/design-patent#drawingex
6. [6] 圖片來源：USPTO的設計專利申請須知的圖式中透明材質呈現方式之範例。https://www.uspto.gov/patents/basics/apply/design-patent

責任編輯：盧頎

【本文僅反映專家作者意見，不代表本報立場。】

作者： 葉雪美（Sherry H.M. Yeh） 學歷： 世新大學法律研究所法學碩士 成功大學工業設計系學士 經歷： 科技部 研發成果管理審查會委員 經濟部智慧財產局專利一組 簡任專利高級審查官 中央標準局新式樣專利主任審查員（75-76） 中央標準局專利審查委員（80-89） 台灣科技大學 專利所 兼任助理教授 著作： 《美國設計專利侵害認定相關問題研究－兼論我國新式樣專利侵害認定問題》，2004。 《設計專利申請實務－台灣及美國專利申請策略》，元照出版公司，2008。

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