李淑蓮╱北美智權報 編輯部

隨著人工智慧(AI)與高效能運算(HPC)應用的快速演進,AI 運算正由兆級參數模型訓練持續擴展至推論時運算、代理型 AI(Agentic AI)、混合專家模型(MoE)以及大規模 AI 採用。面對工作負載高度複雜化,傳統單一晶片(SoC)微縮制程已面臨物理極限與高昂成本挑戰。在資策會產業情報研究所(MIC)主辦的「2026躍進 AI Leap 研討會」中,資深產業分析師李依珊發表「AI應用需求下的高階晶片封裝發展趨勢」專題演講,深入解析高階晶片如何透過先進封裝與小晶片(Chiplet)技術突破算力瓶頸,以及臺灣半導體產業供應鏈的關鍵機會。

資策會產業情報研究所(MIC)資深產業分析師李依珊

關鍵趨勢一:AI 工作負載劇增,小晶片(Chiplet)架構躍居主流

李依珊分析,AI 應用的延伸同步推升了運算核心算力、記憶體容量與頻寬,以及晶片間的資料傳輸需求。若僅依賴單一大型晶粒(Die),容易因面積過大導致製造缺陷、良率下降並拉高成本。

相較之下,小晶片(Chiplet)架構將晶片功能拆分,讓運算、記憶體、I/O 等不同單元依需求配置最適合的製程。例如:

  • 運算核心採用最先進節點以追求極致算力。
  • 成熟或特殊單元(如 I/O、RF、SerDes)則採用具成本效益的製程。

這種模組化設計不僅能提升良率、控制成本,更保留了客製化彈性。國際大廠如 AMD(Ryzen 7 3D Cache、Instinct M1350 系列)、NVIDIA(B200)、Graphcore 及 Apple(M3 Ultra)等,皆已廣泛運用橫向與垂直整合的小晶片架構。

2.5D封裝與3D堆疊整合有效提升AI運算效能與記憶體頻寬;資料來源:MIC,2026年9月

關鍵趨勢二:從2.5D橫向擴充到3D垂直堆疊,打造超大型系統整合平台

為實現小晶片間的高速資料交換,封裝技術已由傳統打線與覆晶,邁向高密度的 2.5D 與3D異質整合,各種封裝技術主要特點如下:

2.5D 封裝(橫向整合)

透過全矽中介層(如台積電 CoWoS-S)、局部矽橋(如 Intel EMIB、台積電 CoWoS-L)或扇出型重佈線層(RDL,如日月光 FOCOS-B)等架構,將運算晶粒與高頻寬記憶體(HBM)並排整合。因應 AI GPU 整合更多運算晶粒與 HBM 的需求(如由 8 個 HBM3 擴展至 12/24 個 HBM4/HBM5),單一封裝面積顯著擴大,未來更將推升至晶元級系統(System-on-Wafer, SoW)平台。

3D 封裝(垂直堆疊)

運用矽穿孔(TSV)與微凸塊(Microbump)將邏輯晶片或 HBM 的 DRAM 晶粒上下堆疊,大幅縮短傳輸距離。當接點距離微縮至 10 微米以下時,無凸塊的混合鍵合(Hybrid Bonding)技術成為關鍵,可顯著提升互連密度與傳輸能效。

2.5D + 3D 複合整合

如 AMD Instinct M1350 系列,即結合 3D 垂直堆疊運算核心(XCD)與 I/O Die,再透過 2.5D 橫向擴充連結 HBM,極致化傳輸效能與記憶體容量。

關鍵趨勢三:新一代載板與光電整合(CPO)技術崛起

隨著封裝尺寸與傳輸頻寬需求暴增,業界正積極尋求新材料與技術瓶頸的突破:

  • 面板級封裝(PLP): 採用大尺寸矩形玻璃載具(如 $510mm \times 515mm$ 以上),提高大面積封裝的材料利用率與產能,降低成本。
  • 玻璃核心載板(Glass Core Substrate, GCS): 具備高剛性、低翹曲與平坦度極佳等特性,能支援 2 微米級(L/S)極細線路與玻璃通孔(TGV)技術,成為大尺寸高密度封裝的潛力方案。
  • 共封裝光學(CPO)與光互連: 當電訊號在高頻寬、長距離傳輸面臨高損耗與高功耗瓶頸時,將光學引擎(Optical Engine)透過先進封裝直接與運算/交換晶片整合(如台積電 COUPE 技術或 Lightmatter M1000 架構),實現「光進銅退」,大幅優化傳輸頻寬與能效。

關鍵趨勢四:設計思維轉變,跨域共同設計與UCIe標準崛起

先進封裝密度的提升,使熱管理、電源完整性、訊號完整性、應力翹曲及測試難度大幅增加。傳統「系統需求=>晶片設計=>封裝設計=>組裝驗證」的依序流程,極易在後段暴露嚴重問題。

現今產業已走向跨域共同設計(System-Technology Co-Optimization, STCO),於設計早期即同步分析晶片/封裝布局、供電、熱應力與可測試性,降低迭代成本。同時,透過通用小晶片互連介面(UCIe)標準的演進(從 1.0 的 2D/2.5D 跨至 2.0/3.0 的 3D 堆疊與 64 GT/s 高頻寬),讓來自不同供應商與製程的小晶片得以無縫互通。

晶元代工與生態系龍頭(台積電): 打造 3DFabric 整合平台(含 CoWoS、SoIC、SoW 及 COUPE 光電整合),並成立 3DFabric 聯盟;資料來源:MIC,2026年9月

產業布局與台灣供應鏈的新契機

李依珊指出,高階 AI 晶片業者(NVIDIA、AMD)及雲端 CSP 大廠自研 AI 晶片(AWS Trainium3、Google Ironwood TPU、Microsoft Maia 200、Meta MTIA 400)均將先進封裝與客製化整合列為產品世代升級的核心。

先進封裝已成為跨領域的系統工程,單一業者無法單打獨鬥。台廠在此浪潮中具備強大的整體戰力:

  • 晶元代工與生態系龍頭(台積電): 打造 3DFabric 整合平台(含 CoWoS、SoIC、SoW 及 COUPE 光電整合),並成立 3DFabric 聯盟,串聯 EDA、IP、記憶體、測試、載板及封測夥伴共同開發。
  • 封測巨頭(日月光): 推出的 VIPack 平台,涵蓋 Fan-Out、2.5D/3D、SiP 與 CPO 技術,為客戶提供彈性化與客製化的量產服務。
  • 矽光子產業聯盟(SiPhIA): 由 SEMI 發起、台積電與日月光共同倡議,串聯聯發科、鴻海、廣達、旺矽等台廠,推動系統、先進封裝測試與設備規範自動化,全面搶攻光互連商機。

結論

資策會 MIC 總結,高階晶片的效能提升已從單一晶片微縮,正式轉變為多晶片系統整合。2.5D 封裝與 3D 堆疊不僅將持續向接點微縮、大面積化及光電整合演進,更牽動了晶圓製造、記憶體、載板、材料與測試等全產業鏈的協同升級。台灣半導體產業鏈透過技術平台與跨域聯盟的緊密結合,將能在全球高階晶片與 AI 應用市場中持續扮演不可或缺的核心角色。

參考資料:

  1. 資策會產業情報研究所(MIC) 資深產業分析師李依珊《AI應用需求下的高階晶片封裝發展趨勢》簡報資料;2026/09/09

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