摩爾定律的下一步：半導體製造技術的變革新趨勢

從2017到2018年，全球IC製造產業資本投資規模達到高峰，近兩年總投資均超過920億美元規模。目前台灣IC製造產業仍以晶圓代工貢獻最主要產值，隨著創新應用的發展，對於製程的需求也一直不斷攀升，綜觀2018年後的應用趨勢，半導體發展將更加多元，隨著先進製程來到10奈米之下，製程微縮瓶頸浮現，同時複雜的圖形造成曝光次數增加，光罩成本隨之倍增，讓半導體產業向來信守的摩爾定律（Moore’s Law）變得窒礙難行，極紫外光(extreme ultraviolet；簡稱EUV)E技術被視為摩爾定律繼續往下走的關鍵，EUV製程技術勢在必行。