李淑蓮╱北美智權報 編輯部
為了在劇烈的全球半導體技術霸權競爭中，協助韓國本土企業儘早取得高品質專利，韓國智慧財產局 (Ministry of Intellectual Property, MOIP) 於3月11日宣布正式制定並發布《半導體領域專利審查實務指南》(Patent Examination Practice Guidelines for the Semiconductor Sector)。此指南旨在建立更明確的專利判定標準，以因應半導體產業日新月異的技術變革。
反映產業趨勢，解決技術審查痛點
隨著半導體製程邁向極紫外光（EUV）微影、非晶碳硬遮罩、高頻寬記憶體（HBM）以及下一代人工智慧晶片（如 NPU、PIM）等高度整合與微縮化發展，產業界對於審查基準能反映技術特性的呼聲日益增高。根據MOIP針對企業與法律界的調查顯示，業界對現行「進步性」判定標準的模糊感到最為困擾。
為此，MOIP深入分析實際審查案例，將經常發生的爭議點依據法律條款與判定類型進行分類，編製成此部實務指南。指南的核心內容聚焦於三大關鍵領域：(1) 發明說明書的撰寫要求、(2) 申請專利範圍的明確性判定，以及 (3) 進步性等專利要件的審查基準。特別是針對半導體產業常見的「製程決定產品（Product by Process, PBP）」申請案，指南中也提供了具體的判定方法。
具體案例指引，提升專利申請品質
該指南透過實際案例提升實用性。例如，在發明說明書要求方面，指南詳述了若僅依據說明書內容無法在半導體技術層面落實發明時的處理原則。在進步性判斷上，指南則釐清了若先前技術僅提及上位概念，而未揭示具體組成與效果時，不應輕易否定其進步性，進而保障創新的價值。
支援中小企業，深耕IP戰略競爭力
MOIP半導體審查促進團隊負責人 Kim Hee-tae 表示：「這部實務指南將顯著提升審查的一致性，並協助半導體企業確保高價值的專利權。我們特別期待這能成為 IC 設計（Fabless）及半導體設備、材料、零組件等缺乏專屬智財資源的中小企業在撰寫高品質專利說明書時的實務準則。」
4月將舉行說明會推廣
《半導體領域專利審查實務指南》目前已上載至韓國智慧財產局官網（www.moip.go.kr）供大眾下載參考。此外，為了進一步深化產學研界的理解，智慧財產局預計於 2026 年 4 月 針對半導體智財協議會（Semiconductor IP Council）舉辦專場簡報說明會。
參考資料：
(1) Increasing predictability in semiconductor patent examinations!, MOIP, March 9, 2026
