以實際案例分享,提離職後的文件重製行為將是企業營業秘密可能被侵害的警示

陳秉訓/政治大學科技管理與智慧財產研究所教授

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員工離職看似是企業人力資本損失,但若員工在離職前於企業內進行不當重製營業秘密資訊,將對該企業帶來更大的損失。本文將介紹智慧財產及商業法院(智商法院)108年度刑智上訴字第50號刑事判決(NY案),涉及被告於求職期間時對系爭營業秘密有超出公司授權範圍之使用,並藉此討論相關法律問題。

圖片來源 : shutterstock、達志影像

背景

NY案中,被害公司NY科技所有的系爭營業秘密涉及20奈米DRAM晶圓製程技術 — 係於2015至2016年間自美國MTI公司技術移轉而取得。具體內容為NY科技內部供教育用的投影片(PPT),其內容的來源包含20奈米DRAM晶圓製程技術之原始文件及NY科技之專業製程技術等資訊。並該PPT介紹如何從開始至完成20奈米DRAM晶圓生產所須之各項步驟及20奈米晶圓製程從原理到實際執行與執行重點等內容。

本案被告LiZC受僱於NY科技的期間為2006年6月21日至2017年2月9日,並在2016至2017年間,同時擔任某工廠的部門小組長。LiZC在2016年2月17日利用參與NY科技線上課程的機會,在未經同意情況下以電腦螢幕截圖方式重製系爭PPT的部分內容,並將相關截圖儲存於NY科技內其所使用之電腦中。

LiZC在2016年11月時向其主管表達離職之意,而隨即於同年12月21日在C國的ZG公司新竹辦公室進行第一次面試。LiZC為求之後能順利到ZG總公司進行最終面試,於同年月24日前於NY科技內以其具奈米製程相關員工權限登入公司電腦讀取系爭PPT。並於閱覽過程中繼續在未經同意下以電腦螢幕截圖方式將系爭PPT先前未重製內容重製於公司電腦中。且在2016年12月24日當周的週末,LiZC再次進入NY科技辦公室內而將非法截圖的內容列印並熟記。後於同年月28日,LiZC透過視訊與ZG總公司的人員進行線上二次面試。然而,雖LiZC於2017年1月17日搭機前往C國的ZG總公司進行三次面試,但結果未被ZG公司錄取。

刑事追訴

LiZC於2017年遭檢察官以違反《營業秘密法》起訴,而所依據的條文為第13條之2第1項,且涉及同條之1第1項第1款之「擅自重製而取得營業祕密」之行為。在2019年8月8日,臺灣桃園地方法院107年度智訴字第4號刑事判決中裁判「LiZC犯意圖在C國地區使用,未經授權而重製營業祕密罪」,因其認為LiZC有「意圖在C國地區使用」而從事第13條之1第1項第2款之「知悉營業秘密未經授權而重製營業祕密」之行為。

LiZC不服地院判決而上訴至智商法院,但智商法院於2022年9月13日維持一審的有罪判決。特別就「意圖在境外使用」要件,智商法院認為根據LiZC之供稱,「足認LiZC於2016年12月21日面試時即已知悉需接受ZG公司人員於C國地區以視訊面試,且嗣後需再至C國地區SA市面試」,故「LiZC於2016年12月24日列印系爭PPT目的係為用於應付上開面試,自係意圖在與C國地區SA市之ZG公司人員視訊時使用系爭PPT內容,或至C國SA市面試時使用」。

法院所採用之證據

智商法院所採納LiZC供稱涉及「求職過程使用」的內容。第一是LiZC稱其於2016年11月4日提出離職後,即在人力銀行網站上求職,並又透過朋友介紹獵人頭公司的某K,而某K表示可安排LiZC去ZG公司工作。

其次是LiZC稱其在2016年12月21日到ZG公司新竹辦公室面試,並於同年月28日到同樣辦公室與ZG公司的工程團隊進行視訊面試,且後來被安排於2017年1月17日前後出國到C國SA市的ZG總公司面試。

第三是LiZC表示在2016年12月28日的視訊面試時被問了很多細節問題 — 電路、半導體公式、NY科技的半導體生產流程及成本分析等,LiZC自認未能回答適當。故為強化專業知識以提高被ZG公司錄取機會,因此其於2016年12月24日至2017年2月5日期間,大量列印屬於NY科技的機密資料。LiZC認為上述行為可讓自己更加瞭解20奈米製程以能跟ZG公司人員說明而不會透漏太多NY科技的營業秘密。

最後是根據LiZC與某K聯繫之電子郵件內容,雙方有討論第三次面試之準備,且LiZC曾表示有自信能幫助ZG公司實現DRAM事業計畫。

法院對被告抗辯之回應

智商法院回應LiZC的二項抗辯如下,

(一)LiZC主張其求職所依據者為工作經驗、且面試係發生於列印系爭PPT截圖之前,故不能認定其有意圖將所列印之文件為面試所用。對此,智商法院指出「LiZC與ZG公司間之面試共有3次」,其中「於2016年12月21日第一次面試時」,LiZC「即獲悉任用前尚須經C國的技術團隊透過視訊面談、考試」,且「通過後會再安排去C國SA市的ZG總公司由人資長及技術團隊再次面試」,「則LiZC於同年月24日列印系爭投影片截圖之行為,顯然是為其同年月28日之第二次面試甚或2017年1月17之第三次面試準備」。

(二)第二項主張是LiZC認為其若錄取後之服務地點將是ZG在新竹的辦公室而非C國。對此,智商法院認為「LiZC明知ZG公司本為C國地區之公司,且列印系爭PPT截圖係欲作為其於C國地區ZG公司面試時使用」,故相關列印文件「自屬境外使用,而與LiZC上班地點無關」。

「意圖」要件之舉證

如何舉證「意圖在外國、大陸地區、香港或澳門使用」要件是執法實務上的挑戰。NY案可和智財法院107年度刑智上訴字第4號刑事判決(LI案)相比較 — 智商法院指出「LI案並無證據堪認被告確有將系爭資料洩漏於外國公司或單位之積極證據」。雖然智商法院期待有「積極證據」,但不能理解的是其卻未能因被告於離職前非法重製系爭營業秘密而滿足「積極證據」的要求。智商法院忽視LI案被告於犯行發生後即赴C國而任職於與被害公司有競爭關係的公司,且未探究被告非法重製系爭營業秘密的原因。有疑慮的是,智商法院卻要求有「交付系爭營業秘密給外國公司」為證據。此態度等同於默許更嚴重的侵害事件發生,即LI案被害公司的營業秘密事實上為外國公司所非法取得。

NY案判決則顯示許多「積極證據」,包括被告在與外國公司面試後即有非法重製系爭營業秘密的行為。不過,這些「積極證據」顯示被害公司的營業秘密已揭露給外國公司的事實,畢竟被告經歷至少三次面試。此外,被告於至少有1次面試後即有大量重製被害公司營業秘密之行為,且於面試時有和外國公司人員討論被害公司的技術。

假若採取NY案與LI案等判決的標準,將讓檢調的犯罪偵察活動冒著被害公司會實際上遭外國公司侵害的風險。亦即,當被害公司察覺其員工嘗試或正在從事《營業秘密法》第13條之2之犯行時,檢調機關必須要等待該員工有「實際」上正在非法揭露系爭營業秘密給外國公司時,才能破獲該犯行;否則依上述條文之罪將因「積極證據」要求而有不成立之風險。

現行智商法院的見解有間接鼓勵犯罪發生之疑慮,而與《營業秘密法》抑制竊取營業秘密行為之目的有違。

司法實務問題

智商法院在認定有成立意圖在境外使用營業秘密罪的相關判決中,並非皆有闡述與「意圖在境外使用」要件之相關證據。關於有闡述相關證據的案例,可從法院所引述的證據而分類非法使用營業秘密之性質,有涉及實際使用[1]。在無解釋的案例中仍可由判決內容來判斷使用性質,例如涉及被告有於境外實際使用系爭營業秘密的案例[2],亦有屬於求職期間使用的案例[3]

對於智商法院判決實務上不一致的問題,可能的解釋是這些案例中的被告並無爭執意圖要件。然而,此造成不易從相關案例中,討論建構意圖要件時所應提出的證據。更無從思索的是,當被告不願意自白或不承認自白時,應須要其他的客觀事實,以能證明被告有意圖在境外使用系爭營業秘密。

對企業管理的建議

根據上述過往於離職前不當重製營業秘密案例,被告常於預備辭職期間會有出國的活動,目的是去特定公司進行面試或勘查未來就業的生活環境。因而,企業能否掌握員工的出國活動,將會是防止自身營業秘密受到侵害的關鍵,而僱佣契約的「自願揭露出國活動內容」條款或許為必要的預防手段。

除此之外,稽查上可具體要求員工提供護照或其他出入境文件進行檢視,以佐證其入出境的事實及調整護照使用範圍以減少利用他國護照進入第三國之問題。

備註:

  1. [1] 參考案例:智商法院108年度刑智上更(一)字第3號刑事判決智商法院109年度刑智上訴字第4號刑事判決
  2. [2] 參考案例:智商法院109年度刑智上更(一)字第8號刑事判決智商法院110年度刑智上重訴字第5號刑事判決智商法院109年度刑智上重訴字第5號刑事判決
  3. [3] 參考案例:智財法院107年度刑智上訴字第5號刑事判決

責任編輯:盧頎

【本文僅反映專家作者意見,不代表本報立場。】

作者: 陳秉訓
現任: 政治大學科技管理與智慧財產研究所教授
經歷: 台北科技大學智慧財產權研究所助理教授
華邦電子公司製程工程師
聯華電子公司製程整合研發工程師
台灣茂矽電子公司專利工程師
禹騰國際智權公司專利工程師
威盛電子公司專利工程師
亞太國際專利商標事務所專案副理
學歷: 美國聖路易華盛頓大學法律博士
美國聖路易華盛頓大學智慧財產暨科技法律法學碩士
政治大學法律科際整合研究所法學碩士
台灣大學化工所碩士
台灣大學化工系

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